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International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019 - 最新文献
EUV Extendibility at 0.33 and 0.55NA (Conference Presentation)
Pub Date : 2019-10-17 DOI: 10.1117/12.2548654 M. PhillipsInitial results with the high opacity multi-trigger resist (Conference Presentation)
Pub Date : 2019-10-16 DOI: 10.1117/12.2538374 G. O'Callaghan, C. Popescu, Y. Vesters, A. McClelland, J. Roth, W. Theis, A. RobinsonAdvancing EUV lithography optics (Conference Presentation)
Pub Date : 2019-10-16 DOI: 10.1117/12.2538927 H. Feldmann, O. Conradi, Paul Graeupner, J. V. Schoot, Peter Kuerz, W. Kaiser
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