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2000 5th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage (IEEE Cat. No.00TH8479) - 最新文献
Bias-plasma interaction in pulsed plasmas and its relation to damage mechanisms
Pub Date : 2000-05-22 DOI: 10.1109/PPID.2000.870573 M. V. Malyshev, V. M. DonnellyEvaluation of plasma induced damage of HDP FSG and USG in deep sub-micron technology
Pub Date : 2000-05-22 DOI: 10.1109/PPID.2000.870598 Ang Ting Cheong, Loong Sang Yee, Ong Puay Ing, Tse Man Siu, J. SudijonoPlasma-induced defect generation on silicon surfaces in HDP-CVD processing
Pub Date : 2000-05-22 DOI: 10.1109/PPID.2000.870591 H. M'saad, S. Desai, D. Witty, C. Hamon, Seon-Mee Cho, F. Moghadam
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