查看最新文献
订阅
分享
931发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
1997 2nd International Workshop on Statistical Metrology - 最新文献
Effects of defect propagation/growth on in-line defect based yield prediction
Pub Date : 1998-11-01 DOI: 10.1109/IWSTM.1997.629410 R. Nurani, A. Strojwas, W. ShindoRigorous statistical process variation analysis for quarter-/spl mu/m CMOS with advanced TCAD metrology
Pub Date : 1997-06-08 DOI: 10.1109/IWSTM.1997.629401 K. Aoyama, H. Kunitomo, K. Tsuneno, H. Sato, K. Mori, H. MasudaSimulating the impact of poly-CD wafer-level and die-level variation on circuit performance
Pub Date : 1997-06-08 DOI: 10.1109/IWSTM.1997.629405 B. Stine, D. Boning, J. Chung, D. Ciplickas, J.K. Kibarian
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
