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2006 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings - 最新文献
Anovel High Reliability ILD Stack
Pub Date : 2006-03-26 DOI: 10.1109/RELPHY.2006.251339 J. Naughton, M. NelsonImpact of Crystalline Phase of Ni-Full-Silicide Gate Electrode on TDDB Reliability of HfSiON Gate Stacks
Pub Date : 2006-03-26 DOI: 10.1109/RELPHY.2006.251216 T. Onizawa, M. Terai, A. Toda, M. Oshida, N. Ikarashi, T. Hase, S. Fujieda, H. WatanabeImpact of untreated thicker CVD TiN film at a Via glue layer on Rc Performance in 0.15um CMOS Technology
Pub Date : 2006-03-26 DOI: 10.1109/RELPHY.2006.251304 Kyeong Sik Lee, N. Kim, Jun Liu, Jung Wook Shin, W. K. Chin, Yungui Li, Y. You, J. Tan, H. Yoon, S. Han
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