Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond - 最新文献

Pub Date : 1900-01-01 DOI: 10.1007/978-981-15-0046-6_2 Guilei Wang

Pub Date : 1900-01-01 DOI: 10.1007/978-981-15-0046-6_3 Guilei Wang

Pub Date : 1900-01-01 DOI: 10.1007/978-981-15-0046-6_5 Guilei Wang

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