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IEEE/SEMI Conference on Advanced Semiconductor Manufacturing Workshop - 最新文献
In-line process monitoring using surface charge analysis
Pub Date : 1990-09-11 DOI: 10.1109/ASMC.1990.111234 A. Resnick, E. Kamieniecki, H. Phelps, Donald A. JacksonAn expert system for process monitoring, diagnostics and control (VLSI and ULSI circuits)
Pub Date : 1990-09-11 DOI: 10.1109/ASMC.1990.111217 E. H. Nicollian, S.-s. Chen, R. TsuUse of process simulators to assist in the design of processes for manufacturability
Pub Date : 1990-09-11 DOI: 10.1109/ASMC.1990.111214 M.R. Kump, S.W. Mylroie, W. Alexander, A. Walton
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