查看最新文献
订阅
分享
664发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
1998 3rd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage (Cat. No.98EX100) - 最新文献
Reliability characterization of process charging impact on thin gate oxide
Pub Date : 1998-06-04 DOI: 10.1109/PPID.1998.725569 Y. Lee, K. Wu, G. Sery, N. Miekle, W. LinPhotoreflectance spectroscopic technique: a new model for estimation of plasma-induced defect density in Si substrate
Pub Date : 1998-06-04 DOI: 10.1109/PPID.1998.725597 H. Wada, K. Eriguchi, A. Fujimoto, T. Kanashima, M. OkuyamaImpact of line/hole-antenna connected to well on plasma induced charging damage [IC interconnects]
Pub Date : 1998-06-04 DOI: 10.1109/PPID.1998.725608 N. Matsunaga, K. Honda, H. Yoshinari, H. Shibata
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
