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Digest of Papers Microprocesses and Nanotechnology 2005 - 最新文献
Aerial image characteristics of modified absorber model for extreme ultraviolet lithography (EUVL)
Pub Date : 2008-06-14 DOI: 10.3938/JKPS.52.1759 In-Yong Kang, J. Ahn, Hye-keun Oh, Yong-Chae ChungEpoxy-containing ArF resists with narrow molecular weight distribution
Pub Date : 2006-11-30 DOI: 10.1116/1.2357971 M. Shirai, M. Manabe, S. Tsuji, T. ItaniLow-voltage high-isolation RF MEMS switch based on a single crystalline silicon structure with fine gap vertical comb
Pub Date : 2006-10-01 DOI: 10.1109/IMNC.2005.203843 Sungsoo Moon, H. Kim, K. Chun
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