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20th International Reliability Physics Symposium - 最新文献
Basic Problems for Electromigration in VLSI Applications
Pub Date : 1982-12-01 DOI: 10.1109/IRPS.1982.361947 P. HoA New Latent Failure Mechanism for Schottky Barrier Diodes with Al-Cu-Si Metallurgy
Pub Date : 1982-03-01 DOI: 10.1109/IRPS.1982.363029 Sang U. KimThe Influence of Contamination on Aluminum-Gold Intermetallics
Pub Date : 1982-03-01 DOI: 10.1109/IRPS.1982.363033 H. Charles, B. Romenesko, G. D. Wagner, R. Benson, O. Uy
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