查看最新文献
订阅
分享
967发文信息
历年影响因子
历年发表
投稿信息
2015 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications - 最新文献
Moving from thin films to atomic layers — Atomic layer etching
Pub Date : 2015-04-27 DOI: 10.1109/VLSI-TSA.2015.7117594 C. Huffman, E. Joseph, S. PaparaoA new ultra high density 1F1R MLC flash contact RRAM
Pub Date : 2015-04-27 DOI: 10.1109/VLSI-TSA.2015.7117557 Yu-Wen Chung, W. Shen, Ping-Yu Chen, Zih-Song Wang, Huei-Haurng Chen, M. Tsai, Y. King, C. LinMulti-channel magnetic transmission interface for 3D contactless connection
Pub Date : 2015-04-27 DOI: 10.1109/VLSI-TSA.2015.7117586 Liang-Shun Chang, Y. Yen, K. Shen, M. Tsai, C. Lin, Y. King
免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
京公网安备 11010802042870号
