Universal scaling relationship for atomic layer etching

待确认 10 由 Roy 发布于 2026/9/9 17:20:36

DOI:10.1116/6.0000762
作者：K. J. Kanarik,?Samantha Tan,?Wenbing Yang,?I. Berry,?Yang Pan,?R. Gottscho
文献类型：期刊论文
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American Institute of Physics (AIP)

Abstract：Atomic layer etching (ALE) is a multistep process used for removing ultrathin layers of the material. The removal step can be driven by ion bombardment, typically with energies of 1 s. Previ

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