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Quantum Transport Simulation and Logic Gate Application of n-Type Sub-10 nm Monolayer MoSi2N4 MOSFETs?
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10
由 w 发布于 2026/1/9 23:32:33
DOI:10.1021/acsaelm.5c01786
作者:Jie Li, , , Shuo Wang, , , Xiang Li, , , Guozheng Nie, , , Zhenhua Wu, , , Yu-Qing Zhao*, , and , Yee Sin Ang*,
文献类型:期刊论文
补充材料:只需要正文
American Chemical Society (ACS)
Abstract:
Nowadays, silicon-based field-effect transistors (FETs) are approaching the physical limits, while two-dimensional (2D) materials have emerged as promising channel material candidates to ove
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