RuAl thin film deposition by DC magnetron sputtering
已完结10由 糊图图 发布于 2024/6/24 12:59:13
DOI:10.1002/adem.202400258
作者:Vincent Ott, Tomasz Wojcik, Szilard Kolozsvari, Peter Polcik, Christian Schäfer, Christoph Pauly, Frank Mücklich, Sven Ulrich, Paul H. Mayrhofer, Helmut Riedl, Michael Stüber
文献类型:期刊论文
补充材料:只需要正文