(看备注)Plasma damage-free in situ etching of β-Ga2O3 using solid-source gallium in the LPCVD system

已完结 25 由 remyhin 发布于 2026/4/14 14:53:00

DOI:DOI:https://doi.org/10.1063/5.0277909
文献类型：期刊论文
补充材料：只需要正文
文献链接：https://doi.org/10.1063/5.0277909
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