钛、氮离子表面改性低合金钢的表征

E. Valbuena-Niño, L. Gil, Luis R. Hernández-Molina, J. Barba-Ortega, V. Dugar-Zhabon
{"title":"钛、氮离子表面改性低合金钢的表征","authors":"E. Valbuena-Niño, L. Gil, Luis R. Hernández-Molina, J. Barba-Ortega, V. Dugar-Zhabon","doi":"10.29047/01225383.14","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"espanolRESUMEN La tecnica de implantacion ionica tridimensional (3DII) consigue que los iones a implantar colisionen perpendicularmente con la superficie sin importaria geometria del solido (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon et al., 2002). Se ha usado un acero de herramientas AISI SAE 4140 como sustrato por su amplio uso en la industria del transporte de hidrocarburos. Las probetas de acero se sometieron a la modificacion superficial con iones Titanio (Ti) y Titanio+Nitrogeno (Ti+N) a energia de lOkeV durante 5min y 1 Omin. Los sustratos modificados y no modificados superficialmente fueron caracterizados mediante la tecnica de espectroscopia de impedancia electroquimica (EIS), observando entre los resultados mas resaltantes que la doble capa electroquimica del sistema en estudio presenta caracteristicas capacitivas en todas las condiciones evaluadas, donde el mejor desempeno frente a la corrosion lo presentan los sustratos implantados con iones de Ti durante 1 Omin, debido a que poseen una resistencia a la transferencia de carga mucho mayor que los implantados con iones de Ti+N y los no implantados. Adicionalmente se determino que todos los sistemas implantados pueden ser simulados mediante el uso de un circuito equivalente, el cual posee un elemento de fase constante en lugar de un capacitor y que el sustrato sin implantar a partir del dia de inmersion 15 se puede simular a traves de otro circuito equivalente diferente. EnglishABSTRACT The three-Dimensional Ion Implantation technique (3DII) causes ions to collide with a solid surface in a perpendicular way regardless of the geometry of the solid (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon, Dulce-Moreno & Tsygankov, 2002). The steel AISI SAE 4140 has been used as substrate because of its wide use in the transport of oil industry, the specimens of steel underwent surface modification with Titanium ions (Ti) and the combined ions of titanium and nitrogen (Ti+N), with energy of 1 OkeV for 5min and lOmin. The superficially modified and unmodified specimens were characterized by Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS), noting among the most outstanding results the electrochemical double layer system capacitive characteristics under all tested conditions, the best corrosion performance was obtained for implanted substrates with Ti ions for 70m/n, having a charge transfer resistance much higher than those implanted with Ti+N and the non-implanted. Additionally it was determined that all the implanted systems can be simulated by using one equivalent circuit with a constant phase element instead of a capacitor and the non implanted substrate from day 15 can be simulated through another equivalent circuit. portuguesRESUMO A tecnica de implantacao ionica tridimensional (3DII) consegue que os iones a serem implantados colidam perpendicularmente com a superficie sem importar a geometria do solido (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon et al., 2002). Foi usado um aco de ferramentas AISI SAE 4140 como substrato sendo que ele e extensivamente utilizado na industria de transporte de hidrocarbonetos. Os especimenes de aco foram submetidos a alteracao superficial com iones de Titânio (Ti) e Titânio + Nitrogenio (Ti+N) com energia de 1 OkeV durante 5 min e 1 0 min. Os substratos alterados e nao alterados superficialmente foram caracterizados mediante a tecnica de espectroscopia de impedância eletroquimica (EIS), verificando-se entre os resultados mais importantes que a dupla capa eletroquimica do sistema em estudo apresenta caracteristicas em todas as condicoes avaliadas, onde o melhor desempenho diante da corrosao e conseguido com os substratos implantados com iones de Ti durante 10 min, por conta deles possuirem uma resistencia a transferencia de carga muito maior do que aqueles implantados com iones de Ti+N e com os nao implantados. Adicionalmente, determinou-se que todos os sistemas implantados podem ser simulados mediante o uso de um circuito equivalente, que possui um elemento de fase constante ao inves de um capacitor e que o substrato sem implantar a partir do dia de imersao 15 pode ser simulado atraves de outro circuito equivalente diferente.","PeriodicalId":10235,"journal":{"name":"Ciencia Tecnologia y Futuro","volume":null,"pages":null},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2016-06-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"4","resultStr":"{\"title\":\"Characterization of the low alloy steel modified superficially with ions of titanium and nitrogen\",\"authors\":\"E. Valbuena-Niño, L. Gil, Luis R. Hernández-Molina, J. Barba-Ortega, V. 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EnglishABSTRACT The three-Dimensional Ion Implantation technique (3DII) causes ions to collide with a solid surface in a perpendicular way regardless of the geometry of the solid (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon, Dulce-Moreno & Tsygankov, 2002). The steel AISI SAE 4140 has been used as substrate because of its wide use in the transport of oil industry, the specimens of steel underwent surface modification with Titanium ions (Ti) and the combined ions of titanium and nitrogen (Ti+N), with energy of 1 OkeV for 5min and lOmin. The superficially modified and unmodified specimens were characterized by Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS), noting among the most outstanding results the electrochemical double layer system capacitive characteristics under all tested conditions, the best corrosion performance was obtained for implanted substrates with Ti ions for 70m/n, having a charge transfer resistance much higher than those implanted with Ti+N and the non-implanted. Additionally it was determined that all the implanted systems can be simulated by using one equivalent circuit with a constant phase element instead of a capacitor and the non implanted substrate from day 15 can be simulated through another equivalent circuit. portuguesRESUMO A tecnica de implantacao ionica tridimensional (3DII) consegue que os iones a serem implantados colidam perpendicularmente com a superficie sem importar a geometria do solido (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon et al., 2002). Foi usado um aco de ferramentas AISI SAE 4140 como substrato sendo que ele e extensivamente utilizado na industria de transporte de hidrocarbonetos. Os especimenes de aco foram submetidos a alteracao superficial com iones de Titânio (Ti) e Titânio + Nitrogenio (Ti+N) com energia de 1 OkeV durante 5 min e 1 0 min. 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摘要

三维离子植入技术(3DII)使要植入的离子与表面垂直碰撞,而不考虑固体的几何形状(Khvesyuk & Tsygankov, 1997;Dougar-Jabon等人,2002)。AISI SAE 4140工具钢由于其在油气运输工业中的广泛应用而被用作基材。用钛离子(Ti)和钛+氮离子(Ti+N)在lOkeV能量下对钢试样进行表面改性5min和1 Omin。改性基质和未作修改的表面被通过技能特点的光谱electroquimica阻抗(EIS)之间,看结果半部比电容式双系统在研究显示caracteristicas electroquimica层在所有条件评估,列出比desempeno面对corrosion基质植入你1 Omin离子,因为它们比Ti+N离子植入物和非植入物具有更大的电荷转移阻力。此外,吸入所有植入系统可以模拟使用等效电路,拥有一个持续期元素capacitor和培养基的地方没有建立起inmersion 15天可模拟是通过不同的等效电路。三维离子植入技术(3DII)使离子以垂直方式与固体表面碰撞,而不考虑固体的几何形状(Khvesyuk & Tsygankov, 1997;Dougar-Jabon, Dulce-Moreno & Tsygankov, 2002)。AISI SAE 4140钢由于其在石油工业运输中的广泛应用而被用作基材,钢样品采用钛离子(Ti)和钛与氮离子(Ti+N)的组合进行表面改性,其能量为1 OkeV,持续5分钟。修改superficially和unmodified标本被以中西Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS),注意到“The most outstanding成果双重layer system capacitive分离器under The Electrochemical was all The best corrosion performance tested条件获得for implanted substrates with it ions for 70m / n,且弹transfer resistance much higher than implanted with it + n and The non-implanted的人。此外俄罗斯果决,all the implanted systems can be simulated by using one equivalent巡回with a常数阶段element instead of a capacitor and the non implanted day 15 can be simulated through substrate from another equivalent巡回。三维离子植入技术(3DII)使离子与表面垂直碰撞,而不考虑固体的几何形状(Khvesyuk & Tsygankov, 1997;Dougar-Jabon等人,2002)。以AISI SAE 4140工具为底物,广泛应用于油气输送工业。Os标本按逮捕submetidos要化妆品alteracao甲â离子nio (it)和甲ânio com + Nitrogenio (it + N)能量1期间OkeV 5 min e 1 0 min. Os、证件和经过改造的容器表面逮捕通过光谱的技术特点impedância eletroquimica (EIS), verificando-se Os mais重要成果包括dupla eletroquimica do在系统层estudo不少caracteristicas嗯所有as condicoes avaliadas,其中,在10分钟内植入Ti离子的衬底具有更好的抗腐蚀性能,因为它们比植入Ti+N离子和未植入Ti+N离子的衬底具有更大的电荷转移电阻。此外,determinou-se模拟所有os系统部署部落被利用或被um等效电路,possui嗯嗯capacitor不断ao inves期元素e或do一天起基体sem部署imersao 15 pode假装atraves另一位不同的等效电路。
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Characterization of the low alloy steel modified superficially with ions of titanium and nitrogen
espanolRESUMEN La tecnica de implantacion ionica tridimensional (3DII) consigue que los iones a implantar colisionen perpendicularmente con la superficie sin importaria geometria del solido (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon et al., 2002). Se ha usado un acero de herramientas AISI SAE 4140 como sustrato por su amplio uso en la industria del transporte de hidrocarburos. Las probetas de acero se sometieron a la modificacion superficial con iones Titanio (Ti) y Titanio+Nitrogeno (Ti+N) a energia de lOkeV durante 5min y 1 Omin. Los sustratos modificados y no modificados superficialmente fueron caracterizados mediante la tecnica de espectroscopia de impedancia electroquimica (EIS), observando entre los resultados mas resaltantes que la doble capa electroquimica del sistema en estudio presenta caracteristicas capacitivas en todas las condiciones evaluadas, donde el mejor desempeno frente a la corrosion lo presentan los sustratos implantados con iones de Ti durante 1 Omin, debido a que poseen una resistencia a la transferencia de carga mucho mayor que los implantados con iones de Ti+N y los no implantados. Adicionalmente se determino que todos los sistemas implantados pueden ser simulados mediante el uso de un circuito equivalente, el cual posee un elemento de fase constante en lugar de un capacitor y que el sustrato sin implantar a partir del dia de inmersion 15 se puede simular a traves de otro circuito equivalente diferente. EnglishABSTRACT The three-Dimensional Ion Implantation technique (3DII) causes ions to collide with a solid surface in a perpendicular way regardless of the geometry of the solid (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon, Dulce-Moreno & Tsygankov, 2002). The steel AISI SAE 4140 has been used as substrate because of its wide use in the transport of oil industry, the specimens of steel underwent surface modification with Titanium ions (Ti) and the combined ions of titanium and nitrogen (Ti+N), with energy of 1 OkeV for 5min and lOmin. The superficially modified and unmodified specimens were characterized by Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS), noting among the most outstanding results the electrochemical double layer system capacitive characteristics under all tested conditions, the best corrosion performance was obtained for implanted substrates with Ti ions for 70m/n, having a charge transfer resistance much higher than those implanted with Ti+N and the non-implanted. Additionally it was determined that all the implanted systems can be simulated by using one equivalent circuit with a constant phase element instead of a capacitor and the non implanted substrate from day 15 can be simulated through another equivalent circuit. portuguesRESUMO A tecnica de implantacao ionica tridimensional (3DII) consegue que os iones a serem implantados colidam perpendicularmente com a superficie sem importar a geometria do solido (Khvesyuk & Tsygankov, 1997; Dougar-Jabon et al., 2002). Foi usado um aco de ferramentas AISI SAE 4140 como substrato sendo que ele e extensivamente utilizado na industria de transporte de hidrocarbonetos. Os especimenes de aco foram submetidos a alteracao superficial com iones de Titânio (Ti) e Titânio + Nitrogenio (Ti+N) com energia de 1 OkeV durante 5 min e 1 0 min. Os substratos alterados e nao alterados superficialmente foram caracterizados mediante a tecnica de espectroscopia de impedância eletroquimica (EIS), verificando-se entre os resultados mais importantes que a dupla capa eletroquimica do sistema em estudo apresenta caracteristicas em todas as condicoes avaliadas, onde o melhor desempenho diante da corrosao e conseguido com os substratos implantados com iones de Ti durante 10 min, por conta deles possuirem uma resistencia a transferencia de carga muito maior do que aqueles implantados com iones de Ti+N e com os nao implantados. Adicionalmente, determinou-se que todos os sistemas implantados podem ser simulados mediante o uso de um circuito equivalente, que possui um elemento de fase constante ao inves de um capacitor e que o substrato sem implantar a partir do dia de imersao 15 pode ser simulado atraves de outro circuito equivalente diferente.
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