铜在多晶金上电沉积过程的伏安法研究。作为支撑电解质的酒石酸钾浓度的影响

IF 0.2 Q4 GEOSCIENCES, MULTIDISCIPLINARY
M. Hernández, L.H. Mendoza H.
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摘要

本工作,着重讨论了铜薄膜电极上的电化学合成黄金多晶硅和存款从解决由0.001 M Cu (NO3) 2 + x M的酒石酸氢盐钾(x = 0.005、0.01、0.015和0.02米)。potenciodinámico研究所得结果表明潜在的可能合成薄膜铜多晶硅黄金,处在等级[25 - 40]mV。电解液中酒石酸盐浓度的变化并没有显著改变系统的pH值或铜沉积的电位范围。
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Estudio voltamperométrico sobre el proceso de electrodeposición de cobre sobre oro policristalino. Influencia de la concentración del bitartrato de potasio como electrólito de soporte
En el presente trabajo, se ha abordado la síntesis electroquímica de películas delgadas de cobre sobre un electrodo de oro policristalino y a partir de una solución de depósito conformada por 0.001 M de Cu(NO3)2 + x M de bitartrato de potasio (donde x=0.005, 0.01, 0.015 y 0.02 M). Los resultados derivados del estudio potenciodinámico indican que los potenciales donde es posible sintetizar películas delgadas de cobre sobre oro policristalino, se encuentran en el rango [250 - 40] mV. El cambio de concentración de bitartrato en el baño electrolítico no modificó apreciablemente el pH del sistema ni el rango de potencial donde se puede llevar a cabo el depósito de cobre.
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