Microscopie interférentielle X-UV : un outil pour l'étude des endommagements des surfaces optiques

Nous presentons des resultats recents concernant des premieres investigations de microscopie interferentielle par laser X-UV d'endommagement optique. Le laser X-UV utilise est un laser collisionnel en regime quasi-stationnaire emettant a 21.2nm, developpe au Prague Asterix Laser System (PALS, Prague, Republique Tcheque). Des echantillons de silice fondue de haute qualite, avec ou sans rayure, etaient irradiees en face avant par un laser bleu, correspondant au 3 eme harmonique du laser a iode du PALS (1.315 μm), servant egalement a realiser le laser X-UV a 21.2 nm. Celui-ci etait utilise, 5 ns apres l'irradiation pour realiser une imagerie microscopique et interferentielle de la face arriere de l'echantillon. Les resultats font apparaitre des deformations locales transitoires. Des premieres analyses mettent en evidence une probable variation de la rugosite de la surface. Cette demonstration experimentale encourageante ouvre la voie a de futures investigations, notamment sur notre prochaine installation laser: LASERIX.