用扫描电镜评价种植体直假体与莫尔斯锥形内连接之间的界面

Mariana Bispo Costa, Lorena Ferreira, Wilton Mitsunari Takeshita, A. C. Marqueti, C. Trento
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As amostras foram analisadas e os microgaps mensurados no MEV (JEOL JCM-5700, MA, USA), e posteriormente os dados foram analisados. Resultado A média e o desvio padrão dos maiores microgaps foram observados na parte apical do implante nos lados direito e esquerdo, sendo 1,44±2,68 e 1,16±1,49 μm, respectivamente. Os menores microgaps foram na parte superior do implante nos lados direito e esquerdo, sendo 0,60±0,73 e 0,66±0,67 μm, respectivamente. Contudo, no teste de Kruskal-Wallis, não houve diferença estatisticamente significativa entre as regiões dos implantes, tanto para o lado esquerdo (p=0,692) como para o direito (p=0,865). No teste de Mann-Whitney, não houve diferenças estatisticamente significativas entre os lados para as diferentes regiões dos implantes. Conclusão Mesmo com a presença de microgaps na interface implante-pilar protético, estes apresentam tamanho inferior ao que causaria problemas biológicos e mecânicos. 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摘要

种植体-基台界面及其微间隙的形成是负荷转移和生物反应的重要方面,关系到康复的成功。摘要目的利用扫描电子显微镜(sem)评价莫尔斯锥形种植体内部连接与假体表面界面的微间隙。材料和方法使用20个尺寸为3.75 × 11.0 mm的Morse锥形种植体及其单数®基台(单数种植体,RN,巴西)。将直桩以32N/cm2的扭矩连接到种植体上,并在ES260环氧树脂基上生成生成的组件,以允许样品的纵向切片。对样品进行分析,用扫描电镜(JEOL JCM-5700, MA, USA)测量微间隙,然后对数据进行分析。结果种植体左右根尖部分最大微间隙的平均值和标准差分别为1.44±2.68和1.16±1.49 μm。种植体上部左右两侧微间隙最小,分别为0.60±0.73和0.66±0.67 μm。然而,在Kruskal-Wallis检验中,种植体左侧(p= 0.692)和右侧(p= 0.865)的种植体区域之间没有统计学差异。在Mann-Whitney检验中,种植体不同区域的两侧差异无统计学意义。结论即使种植体-基台界面存在微间隙,其尺寸也小于引起生物和机械问题的微间隙。样品的配合相容性分析令人满意。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Avaliação da interface entre o componente protético reto e a conexão interna tipo Cone Morse do implante dentário por meio da microscopia eletrônica de varredura
Resumo Introdução A interface implante-pilar protético e a formação dos seus microgaps são aspectos relevantes na transferência das cargas e na resposta biológica, estando ligadas ao sucesso da reabilitação. Objetivo Avaliar microgaps na interface entre a conexão interna do implante do tipo Cone Morse e a superfície do componente protético por meio da microscopia eletrônica de varredura (MEV). Material e método Foram utilizados 20 implantes dentários de tamanho 3,75 × 11,0mm do tipo Cone Morse com seus respectivos pilares protéticos da Singular® (Singular Implants, RN, Brasil). Os munhões retos foram acoplados aos implantes com torque de 32N/cm2 e o conjunto resultante foi emergido em base de Resina Epóxi ES260, para permitir secção longitudinal da amostra. As amostras foram analisadas e os microgaps mensurados no MEV (JEOL JCM-5700, MA, USA), e posteriormente os dados foram analisados. Resultado A média e o desvio padrão dos maiores microgaps foram observados na parte apical do implante nos lados direito e esquerdo, sendo 1,44±2,68 e 1,16±1,49 μm, respectivamente. Os menores microgaps foram na parte superior do implante nos lados direito e esquerdo, sendo 0,60±0,73 e 0,66±0,67 μm, respectivamente. Contudo, no teste de Kruskal-Wallis, não houve diferença estatisticamente significativa entre as regiões dos implantes, tanto para o lado esquerdo (p=0,692) como para o direito (p=0,865). No teste de Mann-Whitney, não houve diferenças estatisticamente significativas entre os lados para as diferentes regiões dos implantes. Conclusão Mesmo com a presença de microgaps na interface implante-pilar protético, estes apresentam tamanho inferior ao que causaria problemas biológicos e mecânicos. As amostras analisadas quanto à sua compatibilidade de encaixe foram satisfatórias.
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