与0.5 M HClO4溶液接触的玻璃/钛基板和钛板上Ti氧化物的半导体特性

Santiago Décima, Eliseo Narciso Díaz, A. S. Fuentes, Francisco Angel Filippin
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摘要

半导体/电解质界面的研究在光电化学太阳能电池的生产中有应用。当N型半导体与电解液接触时,可以使用Mott-Schottky模型来评估其半导体特性。钛(Ti)是一种具有自发氧化膜二氧化钛(TiO2)的金属,可以通过阳极氧化生长。本文在玻璃/钛基板和钛板上阳极生长钛氧化物薄膜,并应用Mott-Schottky模型评估其在室温下与0.5 M HClO4溶液接触时的半导体性能。在本文所描述的条件下,玻璃/Ti/TiO2电极和Ti/TiO2单板呈现出n型半导体的行为,供体浓度分别为y。实验前后氧化膜稳定。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Propiedades semiconductoras del óxido de Ti sobre sustratos vidrio/Ti y chapa de Ti en contacto con una solución de 0,5 M de HClO4
El estudio de la interfase semiconductor/electrolito tiene aplicaciones en la producción de celdas solares fotoelectroquímicas. Las propiedades semiconductoras de un semiconductor de tipo n pueden ser evaluadas mediante el modelo de Mott-Schottky cuando se lo pone en contacto con un electrolito. El titanio (Ti) es un metal que presenta una película de óxido espontánea, dióxido de titanio (TiO2), la cual puede ser crecida por anodización. En este trabajo se crecieron anódicamente películas de óxido de Ti, sobre los sustratos vidrio/Ti y chapa de Ti, y se aplicó el modelo de Mott-Schottky para evaluar sus propiedades semiconductoras en contacto con una solución de 0,5 M de HClO4 a temperatura ambiente. Bajo las condiciones descritas en este trabajo, los electrodos vidrio/Ti/TiO2 y chapa de Ti/TiO2 presentan el comportamiento de un semiconductor de tipo n con una concentración de donadores del orden de  y , respectivamente. Las películas de óxido fueron estables antes y después de los experimentos.
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