磁控溅射制备MoOx薄膜的性能

IF 0.7 4区 物理与天体物理 Q3 CRYSTALLOGRAPHY
王效坤, Wang Xiao-kun, 房伟华, Fang Wei-hua, 刘飞, Liu Fei
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摘要

MoOx材料因其较低的反射率,在窄边框液晶显示技术等领域是一种理想的材料。本文利用磁控溅射法在玻璃基板上制备MoOx薄膜,并在MoOx薄膜上沉积不同的金属层,采用不同的方法研究MoOx薄膜及其搭配金属层的特性。测试结果表明:MoOx和玻璃基板的粘附性较好,无须打底膜可在玻璃基板上直接沉积;MoOx和Al及Cu的粘附效果优于Mo及MTD等Mo合金;MoOx薄膜的方块电阻值较大,搭配金属层时可忽略不计;MoOx厚度对搭配金属膜的反射率及色差影响很大,而金属层厚度影响较小。对于采用MoOx作低反材料的工艺,可以根据MoOx材料的特性选择搭配不同的金属层,在满足反射率等要求的基础上,可通过调整MoOx层厚度来调整产品的色差,以满足客户的颜色喜好需求。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Properties of MoOx thin films prepared by magnetron sputtering
MoOx材料因其较低的反射率,在窄边框液晶显示技术等领域是一种理想的材料。本文利用磁控溅射法在玻璃基板上制备MoOx薄膜,并在MoOx薄膜上沉积不同的金属层,采用不同的方法研究MoOx薄膜及其搭配金属层的特性。测试结果表明:MoOx和玻璃基板的粘附性较好,无须打底膜可在玻璃基板上直接沉积;MoOx和Al及Cu的粘附效果优于Mo及MTD等Mo合金;MoOx薄膜的方块电阻值较大,搭配金属层时可忽略不计;MoOx厚度对搭配金属膜的反射率及色差影响很大,而金属层厚度影响较小。对于采用MoOx作低反材料的工艺,可以根据MoOx材料的特性选择搭配不同的金属层,在满足反射率等要求的基础上,可通过调整MoOx层厚度来调整产品的色差,以满足客户的颜色喜好需求。
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