PVD阴极喷涂涂布机

Q4 Agricultural and Biological Sciences

Cientifica Pub Date : 2021-07-01 DOI:10.46842/ipn.cien.v25n2a03

Sergio Arturo Rodriguez-Valencia, Iyari Alejandro Nava-Tellez, M. Elias-Espinosa

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摘要

本工作将讨论为学生使用的阴极溅射沉积(PVD)规模机的设计。这是在高压系统的支持下，在真空系统中以可控的方式产生和聚焦等离子体。通过这种设计，在简单的一轮测试中，可以在玻璃基板上产生可见的铝沉积。这种类型的系统可以为未来的材料技术项目以及光学或摩擦学等领域的大学研究打开大门。

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Máquina de recubrimiento de pulverización catódica PVD

En este trabajo se abordará el diseñó de una máquina a escala de depósitos por pulverización catódica (PVD) para uso estudiantil. Esto a partir de la generación y focalización de plasma de manera controlada en un sistema de vacío con el apoyo de un sistema de alto voltaje. Por medio de este diseño se consiguió realizar un depósito de aluminio visible sobre sustratos de vidrio durante una ronda sencilla de pruebas. Este tipo de sistema puede abrir las puertas a proyectos futuros en tecnología de materiales, así como la investigación en áreas como la óptica o la tribología a nivel universitario.

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