“2015年粒子技术Friedrich Loffler青年奖”。

IF 1.5 4区 工程技术 Q3 ENGINEERING, CHEMICAL
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September 2025 in Nürnberg.</p><p>2025 schreibt die VDI-GVC den Friedrich Löffler-Nachwuchspreis zum fünften Mal aus, und die Preisträger sind sich einig: „Der Friedrich-Löffler-Preis stellt für uns eine große Wertschätzung unserer bisherigen Forschungen und wissenschaftlichen Tätigkeiten dar. Gleichzeitig ist ein solcher Nachwuchspreis auch ein Ansporn, in den bisherigen Anstrengungen nicht nachzulassen“. Die Preisträger der Vorjahre sind Prof. Dr.-Ing. Sergiy Antonyuk, TU Kaiserslautern (2013), Frau Prof. Dr.-Ing. Doris Segets, Uni Duisburg-Essen (2016), Prof. Dr.-Ing. Carsten Schilde, TU Braunschweig (2019) und Dr.-Ing. Johannes Walter (2023).</p><p>Mit dem Preis wird des Vermächtnisses von Prof. Dr.-Ing. Friedrich Löffler gedacht und seine Leistungen für die Partikelforschung gewürdigt. Prof. Dr.-Ing. Friedrich Löffler wurde 1933 geboren, lehrte ab 1973 in Karlsruhe und wurde 1989 als C4-Professor an das Institut für Mechanische Verfahrenstechnik und Mechanik der Universität Karlsruhe berufen. Für seine richtungsweisenden Forschungen zur Partikeltechnologie wurde er u.a. 1974 mit dem Arnold-Eucken-Preis der VDI-GVC und 1981 mit der VDI-Ehrenmedaille in Gold der VDI/DIN-Kommission Reinhaltung der Luft (KRdL) ausgezeichnet.</p><p>Nominierungen für den Friedrich-Löffler-Preis können mit dem Vorschlagsformular bis zum 30.04.2025 per E-Mail an [email protected] eingereicht werden. Weitere Informationen sowie das Formular zum Download finden Sie auf https://www.vdi.de/veranstaltungen/detail/ausschreibung-friedrich-loeffler-nachwuchspreis-in-partikeltechnologie-2025</p><p><b><i>VDI/GVC – Gesellschaft Verfahrenstechnik und Chemieingenieurwesen</i></b></p><p><i>Vivien Manning</i></p><p><i>Telefon: (0211) 62 14 314</i></p><p><i>E-Mail: [email protected]</i></p><p><i>vdi.de/gvc</i></p>","PeriodicalId":9912,"journal":{"name":"Chemie Ingenieur Technik","volume":"97 3","pages":"139"},"PeriodicalIF":1.5000,"publicationDate":"2025-03-07","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"https://onlinelibrary.wiley.com/doi/epdf/10.1002/cite.202570304","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Ausschreibung Friedrich-Löffler-Nachwuchspreis in Partikeltechnologie 2025\",\"authors\":\"\",\"doi\":\"10.1002/cite.202570304\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"<p>Mit dem Friedrich-Löffler-Preis zur Förderung von ingenieurwissenschaftlichen Nachwuchskräften zeichnet die VDI-Gesellschaft Verfahrenstechnik und Chemieingenieurwesen (VDI-GVC) junge Expertinnen und Experten aus Industrie oder Forschung aus, die besondere Verdienste auf dem Feld der Partikelforschung, Partikeltechnologie und des Produktdesigns erworben haben. 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摘要

与Friedrich-Löffler-Preis促进学科Nachwuchskräften的犹太人VDI-Gesellschaft Verfahrenstechnik及化学(VDI-GVC)年轻37岁嫌疑人和行业专家或研究特殊功劳Partikelforschung沙场,Partikeltechnologie . Produktdesigns获得了二氧化碳该奖项每三年在粒子技术国际大会上颁发给一位获得博士学位的科学家,奖金为3000欧元。该奖项将于23日在粒子技术国际大会(PARTEC)开幕式上颁发。2025年9月在纽伦堡。2025年,VDI-GVC第五次颁发弗里德里希Loffler青年奖,获奖者一致认为:“弗里德里希Loffler奖对我们迄今为止的研究和科学活动表示了极大的赞赏。这是一种激励,让我们继续努力。”前几年的获奖者是Ing教授。Sergiy Antonyuk, TU Kaiserslautern(2013),教授Dr.-Ing。多丽丝·塞格斯,杜伊斯堡-埃森大学(2016),教授-工程师。Carsten Schilde, TU Braunschweig(2019)和Dr. Ing。约翰·史密斯(2018)。该奖项将包括Dr.-Ing教授的遗产。弗里德里希Loffler纪念并表彰了他在粒子研究方面的成就。教授Dr.-Ing .弗里德里希Loffler出生于1933年,1973年起在卡尔斯鲁厄任教,1989年被任命为卡尔斯鲁厄大学机械工程和力学研究所的C4教授。由于他在粒子技术方面的开创性研究,他于1974年获得了VDI-GVC的Arnold Eucken奖,并于1981年获得了VDI/DIN清洁空气委员会(KRdL)的VDI金奖。Friedrich Loffler奖的提名可以在2025年4月30日前通过电子邮件发送到[email protected],并填写提名表格。进一步的资料及表格下载找到社会Verfahrenstechnik至https://www.vdi.de/veranstaltungen/detail/ausschreibung-friedrich-loeffler-nachwuchspreis-in-partikeltechnologie-2025VDI/GVC ChemieingenieurwesenVivien ManningTelefon: 62 (0211) 14 314E-Mail:[电子邮件protected] vdi.de (gvc)
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Ausschreibung Friedrich-Löffler-Nachwuchspreis in Partikeltechnologie 2025

Mit dem Friedrich-Löffler-Preis zur Förderung von ingenieurwissenschaftlichen Nachwuchskräften zeichnet die VDI-Gesellschaft Verfahrenstechnik und Chemieingenieurwesen (VDI-GVC) junge Expertinnen und Experten aus Industrie oder Forschung aus, die besondere Verdienste auf dem Feld der Partikelforschung, Partikeltechnologie und des Produktdesigns erworben haben. Der Preis wird im Rahmen des internationalen PARTEC-Kongresses für Partikeltechnologie alle drei Jahre an eine*n promovierte*n Wissenschaftler*in verliehen und ist mit 3000 EUR dotiert. Die Preisverleihung erfolgt im Rahmen der Eröffnung des internationalen Kongresses für Partikeltechnik, PARTEC, am 23. September 2025 in Nürnberg.

2025 schreibt die VDI-GVC den Friedrich Löffler-Nachwuchspreis zum fünften Mal aus, und die Preisträger sind sich einig: „Der Friedrich-Löffler-Preis stellt für uns eine große Wertschätzung unserer bisherigen Forschungen und wissenschaftlichen Tätigkeiten dar. Gleichzeitig ist ein solcher Nachwuchspreis auch ein Ansporn, in den bisherigen Anstrengungen nicht nachzulassen“. Die Preisträger der Vorjahre sind Prof. Dr.-Ing. Sergiy Antonyuk, TU Kaiserslautern (2013), Frau Prof. Dr.-Ing. Doris Segets, Uni Duisburg-Essen (2016), Prof. Dr.-Ing. Carsten Schilde, TU Braunschweig (2019) und Dr.-Ing. Johannes Walter (2023).

Mit dem Preis wird des Vermächtnisses von Prof. Dr.-Ing. Friedrich Löffler gedacht und seine Leistungen für die Partikelforschung gewürdigt. Prof. Dr.-Ing. Friedrich Löffler wurde 1933 geboren, lehrte ab 1973 in Karlsruhe und wurde 1989 als C4-Professor an das Institut für Mechanische Verfahrenstechnik und Mechanik der Universität Karlsruhe berufen. Für seine richtungsweisenden Forschungen zur Partikeltechnologie wurde er u.a. 1974 mit dem Arnold-Eucken-Preis der VDI-GVC und 1981 mit der VDI-Ehrenmedaille in Gold der VDI/DIN-Kommission Reinhaltung der Luft (KRdL) ausgezeichnet.

Nominierungen für den Friedrich-Löffler-Preis können mit dem Vorschlagsformular bis zum 30.04.2025 per E-Mail an [email protected] eingereicht werden. Weitere Informationen sowie das Formular zum Download finden Sie auf https://www.vdi.de/veranstaltungen/detail/ausschreibung-friedrich-loeffler-nachwuchspreis-in-partikeltechnologie-2025

VDI/GVC – Gesellschaft Verfahrenstechnik und Chemieingenieurwesen

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Chemie Ingenieur Technik
Chemie Ingenieur Technik 工程技术-工程:化工
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3-6 weeks
期刊介绍: Die Chemie Ingenieur Technik ist die wohl angesehenste deutschsprachige Zeitschrift für Verfahrensingenieure, technische Chemiker, Apparatebauer und Biotechnologen. Als Fachorgan von DECHEMA, GDCh und VDI-GVC gilt sie als das unverzichtbare Forum für den Erfahrungsaustausch zwischen Forschern und Anwendern aus Industrie, Forschung und Entwicklung. Wissenschaftlicher Fortschritt und Praxisnähe: Eine Kombination, die es nur in der CIT gibt!
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