Dépôts céramiques par PVD ou CVD assistées ou par projection plasma

Abstract

Pour pallier la fragilite, la complexite et le cout des pieces ceramiques, l'industrie a developpe les depots ceramiques sur des pieces metalliques d'epaisseur de quelques millimetres a plusieurs metres. Les depots minces (inferieurs a quelques millimetres) sont realises soit par vaporisation physique assistee par electrons, ions, plasma, laser, soit par depots chimiques en phase vapeur assistes ou non par plasma. Les depots epais (de 50 a quelques millimetres) consistent a projeter des particules de quelques dizaines de millimetres par flammes ou plasmas thermiques. Quelques exemples d'applications, liees aux proprietes des depots obtenus, sont presentes. Apres une breve evaluation des couts relatifs aux differents depots, les perspectives de developpement sont discutees.