Apport de la caractérisation in situ dans les procédés ALD

Jean-Luc Deschanvres, C. Jimenez
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Abstract

Pour affiner la comprehension et le controle des mecanismes de croissance qui gouvernent le processus de depot ALD, les techniques de caracterisation in situ constituent des voies d’investigation de premier ordre. Dans cet article, les differentes techniques utilisees seront presentees en fonction de l’information apportee pour la connaissance du procede de depot ALD : en premier lieu, pour la determination de la fenetre de depot ALD, puis pour la determination des mecanismes reactionnels, et enfin pour la correlation avec les proprietes des films elabores.
原位表征在ALD过程中的贡献
为了更好地理解和控制控制ALD沉积过程的生长机制,原位表征技术是一流的研究途径。本文中,不同的技术将按最低信息保护、边来了解ALD沉积的过程:首先,来测定ALD沉积在窗前,然后来测定reactionnels机制,并最终为厚度与性能相关的影片。
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